Werner Wegscheider: Katalogdaten im Frühjahrssemester 2019

NameHerr Prof. Dr. Werner Wegscheider
LehrgebietFestkörperphysik
Adresse
Laboratorium für Festkörperphysik
ETH Zürich, HPF E 7
Otto-Stern-Weg 1
8093 Zürich
SWITZERLAND
Telefon+41 44 633 77 40
E-Mailwerner.wegscheider@phys.ethz.ch
URLhttps://mbe.ethz.ch
DepartementPhysik
BeziehungOrdentlicher Professor

NummerTitelECTSUmfangDozierende
402-0034-10LPhysik II4 KP2V + 2UW. Wegscheider
KurzbeschreibungZweisemestrige Einfuehrung in die Grundlagen und Denkweise der Physik: Elektrizitaet und Magnetismus, Licht, Wellen, Quantenphysik, Festkoerperphysik, Halbleiter. Vertiefung in ausgewaehlte Themen der modernen Physik von grosser technologischer oder industrieller Bedeutung.
LernzielFoerderung des wissenschaftlichen Denkens. Verstaendnis der physikalischen Konzepte und Phaenomene, welche der modernen Technik zugrunde liegen. Ueberblick ueber die Themen der klassischen und modernen Physik.
InhaltEinfuehrung in die Quantenphysik, Absorption und Emission, Festkoerper, Halbleiter.
SkriptNotizen zum Unterricht werden verteilt.
LiteraturPaul A. Tipler, Gene Mosca, Michael Basler und Renate Dohmen
Physik: für Wissenschaftler und Ingenieure
Spektrum Akademischer Verlag, 2009, 1636 Seiten, ca. 80 Euro.

Paul A. Tipler, Ralph A. Llewellyn
Moderne Physik
Oldenbourg Wissenschaftsverlag, 2009, 982 Seiten, ca. 75 Euro.
Voraussetzungen / BesonderesTestatbedingung: Keine
402-0318-00LSemiconductor Materials: Characterization, Processing and Devices6 KP2V + 1US. Schön, W. Wegscheider
KurzbeschreibungThis course gives an introduction into the fundamentals of semiconductor materials. The main focus in this semester is on state-of-the-art characterization, semiconductor processing and devices.
LernzielBasic knowledge of semiconductor physics and technology. Application of this knowledge for state-of-the-art semiconductor device processing
Inhalt1. Material characterization: structural and chemical methods
1.1 X-ray diffraction methods (Powder diffraction, HRXRD, XRR, RSM)
1.2 Electron microscopy Methods (SEM, EDX, TEM, STEM, EELS)
1.3 SIMS, RBS
2. Material characterization: electronic methods
2.1 van der Pauw techniquel2.2 Floating zone method
2.2 Hall effect
2.3 Cyclotron resonance spectroscopy
2.4. Quantum Hall effect
3. Material characterization: Optical methods
3.1 Absorption methods
3.2 Photoluminescence methods
3.3 FTIR, Raman spectroscopy
4. Semiconductor processing: lithography
4.1 Optical lithography methods
4.2 Electron beam lithography
4.3 FIB lithography
4.4 Scanning probe lithography
4.5 Direct growth methods (CEO, Nanowires)
5. Semiconductor processing: structuring of layers and devices
5.1 Wet etching methods
5.2 Dry etching methods (RIE, ICP, ion milling)
5.3 Physical vapor depositon methods (thermal, e-beam, sputtering)
5.4 Chemical vapor Deposition methods (PECVD, LPCVD, ALD)
5.5 Cleanroom basics & tour
6. Semiconductor devices
6.1 Semiconductor lasers
6.2 LED & detectors
6.3 Solar cells
6.4 Transistors (FET, HBT, HEMT)
Skripthttps://moodle-app2.let.ethz.ch/course/view.php?id=10464
Voraussetzungen / BesonderesThe "compulsory performance element" of this lecture is a short presentation of a research paper complementing the lecture topics. Several topics and corresponding papers will be offered on the moodle page of this lecture.